特許

J-GLOBAL ID：201103087891311100

不安定事象の開始後の製造工程の予防的な補償

発明者： ホウル アレイン ,  ペニングス マイケル ,  ノーマン アンドリュー ,  ラッシュブルック グレン ,  ヘイン ジョン
出願人/特許権者： キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 大島 陽一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-507157
特許番号：特許第4698104号
出願日： 2000年06月22日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数個の製品を製造する工程において、1番目からN番目までのN個の製品について目標パラメータからの偏差を引き起こすような、繰り返し発生する特定タイプの不安定事象を制御するための方法であって、 (a)前記特定タイプの不安定事象の発生時に、同種の過去の不安定事象の発生時における前記N個の製品についての偏差量に対応する偏差量を同数個の製品に対応付けるステップと、 (b)前記N個の製品について前記過去の不安定事象に基づく偏差量から求められた補償ファクタを、今回の不安定事象の発生時に同数個の製品に適用することにより、 今回の不安定事象の開始後に製造される前記N個の製品に対する予防的な補償を行うようにしたことを特徴とする方法。

IPC (3件)：

G05B 19/418 ( 200 6.01) ,  G05B 23/02 ( 200 6.01) ,  G05B 11/36 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G05B 19/418 Z ,  G05B 23/02 V ,  G05B 11/36 501 B

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-069915
  
• 特開平4-074499
  
• プレスブレーキにおける分割金型組合せ制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-350070   出願人：ヤマザキマザック株式会社
• 「リソグラフィ情報管理システム」を『露光装置およびこれを利用した半導体デバイス製造方法、リソグラフィシステムおよびこれを利用した半導体デバイス製造方法』
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-260730   出願人：株式会社ニコン