特許
J-GLOBAL ID:201103087968952449

イオン注入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 京本 直樹 (外2名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-140594
公開番号(公開出願番号):特開平3-008252
特許番号:特許第2806556号
出願日: 1989年06月02日
公開日(公表日): 1991年01月16日
請求項(抜粋):
【請求項1】ディスクチャンバー内に設けられ半導体基板を保持するための円板と該円板に固定されディスクチャンバーを貫通する回転軸と該回転軸が貫通するディスクチャンバーの外側に設けられた回転導入真空シールとを有するイオン注入装置において、前記回転導入真空シールの動作不良を検知した警報信号を発生させるための手段を設けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件):
H01J 37/317 ,  H01J 37/18 ,  H01L 21/265
FI (3件):
H01J 37/317 B ,  H01J 37/18 ,  H01L 21/265 D

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