特許
J-GLOBAL ID：201103088077999653
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-275647
公開番号（公開出願番号）：特開2011-119471
出願日： 2009年12月03日
公開日（公表日）： 2011年06月16日
要約：
【課題】半導体プロセスの立ち上げ時期のように、検査すべき項目が多種多様であり、かつそれらが時間と共に頻繁に変化する場合であっても、簡易な操作で対応可能なウェハ検査技術を提供する。【解決手段】検査画像を収集した後に、検査画像の中からテンプレートを作成する。このテンプレート上に複数の領域を定義し、各領域に検査手法と出力指標を対応付けて登録する。検査時は、取得した検査画像に対応するテンプレート画像を参照し、そこに登録されている検査情報に基づいて検査実行し出力定量値を算出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
走査型電子顕微鏡(SEM)手段と、
該SEM手段で試料上の予め設定された複数の領域を順次撮像して得た複数のSEM画像を記憶する記憶手段と、
該記憶手段に記憶したSEM画像を用いてテンプレート画像を作成するテンプレート画像作成手段と、
該テンプレート画像作成手段で作成したテンプレート画像上で検査領域と該検査領域に対応する検査手法並びに検査項目を設定して記憶する検査条件設定手段と、
前記記憶手段に記憶した複数のSEM画像のうちの1枚のSEM画像を選択して前記テンプレート画像作成手段で作成したテンプレート画像と位置を合わせる画像位置合わせ手段と、
該画像位置合わせ手段で前記テンプレート画像と位置を合わせたSEM画像上に前記検査条件設定手段に記憶された検査領域の情報を用いて検査領域を設定する検査領域設定手段と、
該検査領域設定手段で設定した検査領域のSEM画像を前記検査条件設定手段に記憶された検査手法で画像処理して前記記憶された検査項目に基づいて検査する画像処理手段と
を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001GA12
, 2G001HA13
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA38
, 4M106DB05
, 4M106DJ15
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
