特許
J-GLOBAL ID：201103088151567051
レジストのベーク方法及びベーク装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-253833
公開番号（公開出願番号）：特開2011-099956
出願日： 2009年11月05日
公開日（公表日）： 2011年05月19日
要約：
【課題】フォトマスク製造にて、レジストの塗布後のベーク(PAB)にて、塗布ムラや発泡といった塗布欠陥を発生させず、ベークに要する時間を短縮し工程能力を向上させるレジストのベーク方法、ベーク装置を提供する。【解決手段】フォトマスク基板1上にレジストを塗布した後の該塗布膜2の加熱乾燥にて、基板下面へのホットプレート10による加熱と、基板上面の遮光層或いはハーフトーン層1bへの近赤外線K2による加熱を行うこと。基板を載置してフォトマスク基板下面を加熱するホットプレートと、基板上面を上方から加熱する近赤外線光源ユニット20を設けてなること。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光層或いはハーフトーン層が設けられたフォトマスク基板上にレジストを塗布した該塗布膜の乾燥において、前記フォトマスク基板を載置したホットプレートによる前記フォトマスク基板下面への加熱と、フォトマスク基板上面から近赤外線による加熱を行うことを特徴とするレジストのベーク方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 566
2H095BB23
, 2H095BB38
, 5F046KA02
, 5F046KA04
, 5F146KA02
, 5F146KA04
