特許

J-GLOBAL ID：201103088378834218

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの安定化方法

発明者： 石田 徳政 ,  新谷 恭宏 ,  上岡 正敏
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-385868
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240578
特許番号：特許第4160248号
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの貯蔵に際し、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートに対し、フェノール化合物とともに、飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステルを含ませる、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの安定化方法。

IPC (2件)：

C07C 67/62 ( 200 6.01) ,  C07C 69/54 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C07C 67/62 ,  C07C 69/54 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水酸基含有ビニル化合物の安定化方法並びに水酸基含有ビニル化合物を含む組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-221491   出願人：株式会社日本触媒
• ビニル化合物重合防止用樹脂組成物、ビニル化合物重合防止用樹脂成形体及びビニル化合物重合防止方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-283637   出願人：三菱瓦斯化学株式会社