特許

J-GLOBAL ID：201103088767004018

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 畠山 潤 ,  原田 裕次 ,  渡辺 淳 ,  河合 義夫 ,  笹子 勝 ,  遠藤 政孝 ,  岸村 眞治 ,  大谷 充孝 ,  宮澤 覚 ,  堤 憲太郎 ,  前田 一彦
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  松下電器産業株式会社 ,  セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-248954
公開番号（公開出願番号）：特開2002-060475
特許番号：特許第3738823号
出願日： 2000年08月18日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)または(2)で示される構造単位を主鎖中に有する高分子化合物。 (式中、R1は二価の炭化水素基またはフッ素置換された二価の炭化水素基、R2、R3、R4、R5は、フッ素原子、アルキル基またはフッ素置換されたアルキル基である。R6は水素原子である。)

IPC (5件)：

C08G 63/18 ( 200 6.01) ,  C08G 63/682 ( 200 6.01) ,  C08L 67/02 ( 200 6.01) ,  G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C08G 63/18 ,  C08G 63/682 ,  C08L 67/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 含フッ素ポリエステル及びその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-152083   出願人：日立化成工業株式会社