特許
J-GLOBAL ID：201103088902022960

相変化記録媒体の製造方法及び製造装置

発明者：
佐保田 英司

佐保田 英司 について

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堀口 泰視

堀口 泰視 について

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ジャン アントン ザルディーニ

ジャン アントン ザルディーニ について


出願人/特許権者：
日立コンピュータ機器株式会社

日立コンピュータ機器株式会社 について


代理人 (1件)： 秋本 正実
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-190087
公開番号（公開出願番号）：特開2001-101724
特許番号：特許第3557469号
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基体を回転させるための回転機構と、相変化記録材のスパッタ粒子を発生するスパッタターゲットと、該スパッタターゲットから発生したスパッタ粒子が基体に推積して形成される相変化記録層にレーザビームを照射し、初期結晶化に必要なエネルギーを与える結晶化エネルギー注入機構と、前記回転機構とスパッタターゲットと結晶化エネルギー注入機構とを収納し、スパッタガスを充填する真空チェンバーとを備え、前記スパッタターゲットから発生するスパッタ粒子を回転する基体に推積して相変化記録層を基体に成膜する相変化記録媒体の製造装置であって、前記結晶化エネルギー注入機構が、複数の半導体レーザ素子を併設した半導体レーザと、該半導体レーザ及び光学部品を一体的に収納する角筒状のスカート部と、前記半導体レーザから照射されるレーザビームを所定の方向に偏光し、且つ前記スカート部の内部に半導体レーザを密閉する光学部品とを含み、前記スパッタターゲットが、前記結晶化エネルギー注入機構が貫通する貫通穴を含むことを特徴とする相変化記録媒体の製造装置。
IPC (3件)：
G11B 7/26 ,  C23C 14/58 ,  G11B 7/0055
FI (3件)：
G11B 7/26 531 ,  C23C 14/58 C ,  G11B 7/0055 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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