特許

J-GLOBAL ID：201103089029082981

電解メッキ用塩基性炭酸銅の製造方法

発明者： 松木 詩路士 ,  秋山 一則
出願人/特許権者： 鶴見曹達株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-310547
公開番号（公開出願番号）：特開2002-115100
特許番号：特許第3839653号
出願日： 2000年10月11日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 被メッキ体を電解銅メッキ処理するときに銅メッキ浴に銅イオンの補給剤として供給される塩基性炭酸銅を製造する方法において、 塩化第二銅水溶液と炭酸イオンを含む水溶液とを、混合液における銅イオン1モルに対して炭酸イオンが1.3〜2.6モルとなるように供給比を調整しながら反応槽内に供給し、混合液のpH制御を行わずにその混合液の温度を95°C以上に維持しながら塩基性炭酸銅を生成する第1の工程と、 この工程により得られた塩基性炭酸銅を固液分離しかつ洗浄する第2の工程とを、含むことを特徴とする電解メッキ用塩基性炭酸銅の製造方法。

IPC (3件)：

C25D 21/14 ( 200 6.01) ,  C01G 3/00 ( 200 6.01) ,  C25D 3/38 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C25D 21/14 C ,  C01G 3/00 ,  C25D 3/38 101

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特許第2753855号
  
• 特開平2-289423
  
• 特開昭49-058099