特許

J-GLOBAL ID：201103089307919740

加熱処理装置

発明者： 白川 英一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-157030
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353110
特許番号：特許第3825277号
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を加熱する加熱処理装置であって, 基板を加熱する熱板を有し, 前記熱板は,中央部の第1の部分と,当該第1の部分の外方の第2の部分に分割されており, 前記第1の部分は,円形状を有し, 前記第2の部分は,さらに同心円状の複数の環状部分に分割されており, 前記第2の部分の各環状部分は,それぞれ円弧状の複数の片に分割されており, 前記各片の温度は,個別に制御できることを特徴とする,加熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  H05B 3/00 ( 200 6.01) ,  H05B 3/20 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 567 ,  H05B 3/00 370 ,  H05B 3/20 393

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ヒータ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-377794   出願人：イビデン株式会社