炭化水素原料から選択的にニトリル類を除去するための吸着/脱着方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木正剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-330531
公開番号（公開出願番号）：特開2000-297050
特許番号：特許第3453333号
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】炭化水素原料から選択的にニトリル類を除去するための吸着/脱着方法であって、(a)ニトリル成分を400ppm以下で含有する炭化水素原料を用意するステップを有し、(b)カチオン性非酸性ゼオライトと無機酸化物マトリクスとの実質的に均一な混合物を含有する炭化水素原料からニトリル類を選択的に除去するための吸着剤を用意するステップを有し、前記ゼオライトは、そのアクセスインデックスの値が0.1〜0.4となっており、(c)前記原料と前記吸着剤とをニトリル類吸着条件で接触させるステップを有し、これにより、前記吸着剤の体積に対して少なくとも200倍の体積の原料と接触させる間に、前記ニトリル成分の少なくとも80%が前記吸着剤に吸着されて、前記吸着剤は、ニトリル類の分子が吸着された使用済み吸着剤となり、(d)前記ニトリル類の分子が除去されるように前記使用済み吸着剤を脱着条件で脱着剤と接触させることで、再生された吸着剤を得るステップを有する方法であって、前記脱着剤は、アルコール、エーテル、ケトン、アルキルハロゲナイド、及びこれらの任意混合物のうちから選択されることを特徴とする方法。

IPC (6件)：

C07C 7/12 , B01D 15/00 , B01J 20/18 , B01J 20/34 , C10G 25/00 , C10G 25/03

FI (7件)：

C07C 7/12 , B01D 15/00 G , B01D 15/00 K , B01J 20/18 E , B01J 20/34 E , C10G 25/00 , C10G 25/03

引用特許：

出願人引用 (1件)

特開平2-255892

審査官引用 (5件)

特許第5834392号
特開平2-255892
特開平2-255892

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