特許
J-GLOBAL ID：201103089561918427
プロセスガス供給装置及び供給方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-510420
特許番号：特許第2776441号
出願日： 1989年10月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】原料ガスと希釈ガスとを混合して得られるプロセスガスをプロセス装置に供給するためのガス供給系を有するプロセスガス供給装置において、前記原料ガスを流すための少くとも一本の原料ガス供給管と、前記希釈ガスを流すための少なくとも一本の希釈ガス供給管と、前記原料ガス供給管と希釈ガス供給管とを夫々の下流側で連結する少くとも二本の連通管と、前記原料ガス供給管、前記希釈ガス供給管、および前記連通管の夫々に設けられる少くとも一つの流量調整器とを備え、前記原料ガス供給管と前記希釈ガス供給管との連結部の下流側には少くとも1本の排気管が設けられ、前記連通管と希釈ガス供給管との連結部の少くとも下流側に少くとも一台の前記プロセス装置とを備えたことを特徴とするプロセスガス供給装置。
IPC (5件)：
B01F 15/04
, C23C 16/44
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
B01F 15/04 A
, C23C 16/44 C
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
