特許
J-GLOBAL ID:201103089580686340

シリカ光フアイバの製造方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川原田 一穂
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-154771
公開番号(公開出願番号):特開平2-160637
出願日: 1989年06月19日
公開日(公表日): 1990年06月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】低圧蒸気反応体の合成により得られる金属酸化物でドーピングされたシリカ光ファイバの製造装置であって;支持管(TQ)を含み、該管中で蒸気状反応体間の反応が起こってシリカおよびドーピング剤が生じて支持管の内面に沈着し、該管は固定部(FA,FB)および回転部(RA,RB)からなる2つの継手-その一方は支持管内へガラス物質形成用反応体ガスを注入する通路を設けた継手、そして他方は涸渇ガスを支持管外へ排出する通路を設けた継手-によりその軸のまわりに回転され;そして支持管の環状域を囲みそして軸方向に移動させうる熱源を含む前記製造装置において、それが更に支持管(TQ)内の軸位置に配置された内管(TD)を含み、該内管はその内側をドーピング剤形成用反応体を含有するガス混合物が支持管内における上記ガラス物質形成用反応体ガスの流れとは逆方向に流れるように配置され、該内管の直径は支持管(TQ)のそれよりかなり小さくそして軸スリット(FE)を有し、該スリットの長さはシリカ沈着域のそれに等しくそしてその幅は外側から到着する上記ガス混合物の内管(TD)内流れの方向に増大し、その酸化物が望まれる金属の高純度線ウール(MA)が内管内に置かれることを特徴とする前記製造装置。
IPC (2件):
C03B 37/018 B ,  G02B 6/00 356 A 7036-2K

前のページに戻る