特許
J-GLOBAL ID：201103089712992772
ダイヤモンド様薄膜の製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-214914
公開番号（公開出願番号）：特開平3-079768
特許番号：特許第2989198号
出願日： 1989年08月23日
公開日（公表日）： 1991年04月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空室内の炭化水素、又は分解又は反応により炭化水素を生成し得る原料ガスを導入し、熱陰極フィラメントとその周りに設けられた対陰極とよりなるイオン化手段により電離して炭化水素イオンの流れを形成し、前記対陰極の周りを取り囲んでイオン化ガスの閉じ込め用の磁界を発生する電磁装置により前記イオンを安定化し、前記イオンを前記対陰極よりも低電位にあるグリッドにより加速して基体上で成膜反応させるダイヤモンド様薄膜の製造方法において、前記熱陰極フィラメントで作られたプラズマの流れのうち前記対陰極の基体側の前端から電磁装置の方に広がるプラズマを阻止する位置に前記熱陰極フィラメントに対して正電位の耐熱性の金属遮蔽部材を配して前記プラズマを阻止することを特徴とするダイヤモンド様薄膜の製造法。
IPC (3件)：
C23C 16/26
, C23C 16/50
, C30B 29/04
C23C 16/26 A
, C23C 16/50 F
, C30B 29/04 J
