特許

J-GLOBAL ID：201103089962191783

ウエハ加熱装置

発明者： 長崎 浩一
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-331422
公開番号（公開出願番号）：特開2002-141288
特許番号：特許第3502827号
出願日： 2000年10月30日
公開日（公表日）： 2002年05月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】セラミックスからなる均熱板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面もしくは内部に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備してなるウエハ加熱装置において、前記載置面に該載置面からの突出高さが0.05〜0.5mmとなる複数の支持ピンを備え、該支持ピンは載置面の中心部1点と、ウエハ径×0.6以上の直径を持つ略同心円上に少なくとも3点配列され、略同心円上の支持ピンの突出高さのバラツキは15μm以下であり、かつ前記中心部の支持ピンの突出高さは略同心円上の支持ピンの突出高さより低いことを特徴とするウエハ加熱装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05B 3/20 393

FI (5件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/31 F ,  H05B 3/20 393 ,  H01L 21/30 567 ,  H01L 21/302 101 G