特許
J-GLOBAL ID:201103090092885863

含浸炭素材料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎 (外2名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-034524
公開番号(公開出願番号):特開平2-212309
特許番号:特許第2754662号
出願日: 1989年02月14日
公開日(公表日): 1990年08月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】低密度の炭素材料にピッチを含浸し、その後炭素化あるいは黒鉛化を行なって高密度の炭素材料を得る方法において、前記炭素材料にピッチを含浸した後の表面に、基体は通すが液体は通しにくい孔径の多孔を有する、前記ピッチの不融化温度よりも融点の高い多孔質高分子材料を隙間なく覆って密着させた後に、ピッチを不融化し、その状態で焼成して炭素化あるいは黒鉛化させることを特徴とする含浸炭素材料の製造方法。
IPC (1件):
C04B 35/52
FI (1件):
C04B 35/52 G
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭59-048123
  • 特開昭62-044426

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