特許
J-GLOBAL ID：201103090334866567

光学物品、光学物品の製造方法、電子機器

発明者：
古里 大喜

古里 大喜 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-211690
公開番号（公開出願番号）：特開2011-100111
出願日： 2010年09月22日
公開日（公表日）： 2011年05月19日
要約：
【課題】防塵性能の高い光学物品を提供する。【解決手段】基板1の上に複数層からなる無機薄膜2を有する防塵ガラス10であって、無機薄膜2は、複数の酸化ケイ素層2Aと、複数の金属酸化物の層2Bと、が積層され、金属酸化物は、ジルコニウム、タンタルまたはチタンのいずれかを含んだ金属酸化物であり、酸化ケイ素の層2Aには、低密度の酸化ケイ素層と、この低密度の酸化ケイ素層より密度の高い高密度の酸化ケイ素層とがあり、無機薄膜2の最表層2Sは、低密度の酸化ケイ素層であり、無機薄膜2の最表層2Sの表面粗さは0.55nm以上0.70nm以下である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板上に複数層からなる無機薄膜を有する光学物品であって、 前記無機薄膜は、複数の酸化ケイ素の層と、複数の金属酸化物の層と、が積層され、 前記金属酸化物は、ジルコニウム、タンタルまたはチタンの少なくともいずれかを含む金属酸化物であり、 前記酸化ケイ素の層には、低密度の酸化ケイ素層、またはこの低密度の酸化ケイ素層より密度が高い高密度の酸化ケイ素層、のいずれかが混在し、 前記無機薄膜の最表層は前記低密度の酸化ケイ素層であり、且つ表面粗さが0.55nm以上0.70nm以下であることを特徴とする光学物品。
IPC (7件)：
G02B 5/28 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/26 ,  B32B 9/00 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/06
FI (7件)：
G02B5/28 ,  G02B1/10 A ,  G02B1/10 Z ,  G02B5/26 ,  B32B9/00 A ,  C23C14/08 N ,  C23C14/06 Q
Fターム (48件)：
2H048FA05 ,  2H048FA12 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24 ,  2H048GA04 ,  2H048GA17 ,  2H048GA24 ,  2H048GA36 ,  2H048GA61 ,  2K009AA02 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009EE05 ,  4F100AA20B ,  4F100AA21C ,  4F100AA27C ,  4F100AH05D ,  4F100AH06D ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100EH66B ,  4F100EH66C ,  4F100GB41 ,  4F100JA13B ,  4F100JG04B ,  4F100JG04C ,  4F100JK15 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100YY00 ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA09 ,  4K029DB21
引用特許：
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM