特許
J-GLOBAL ID:201103090383428567
マイクロレンズ基板およびその製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-319511
公開番号(公開出願番号):特開2001-141906
特許番号:特許第4312319号
出願日: 1999年11月10日
公開日(公表日): 2001年05月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板と、この基板の表面上に設けられ、濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層と、この濡れ性可変層上に設けられた複数のマイクロレンズとを有し、
前記濡れ性可変層が、少なくとも光触媒とバインダとからなる光触媒含有層であり、かつエネルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることを特徴とするマイクロレンズ基板。
IPC (3件):
G02B 3/00 ( 200 6.01)
, H01L 27/14 ( 200 6.01)
, H04N 5/335 ( 200 6.01)
FI (3件):
G02B 3/00 A
, H01L 27/14 D
, H04N 5/335 V
引用特許:
出願人引用 (5件)
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特開平3-252603
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特開平4-301801
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光学素子とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-153191
出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (2件)
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