特許
J-GLOBAL ID:201103090596241452
陰イオン交換ポリマー、製造方法及びそれから製造される物質
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
荒川 聡志
, 小倉 博
, 黒川 俊久
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-539540
公開番号(公開出願番号):特表2011-506749
出願日: 2008年10月15日
公開日(公表日): 2011年03月03日
要約:
新規な陰イオン交換ポリマーが提供される。その陰イオン交換ポリマーを製造する方法は、第三アミン、酸抑制剤及びポリエポキシドを反応させて第四アンモニウムモノマーを形成し、この第四アンモニウムモノマーを触媒の存在下で重合することを含んでいる。この交換ポリマーは、ハロゲン化アルキルを用いることなく製造され、耐薬品性で汚れが付かない改良されたイオン交換材料を製造するのに使用することができる。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
次式を有する陰イオン交換ポリマー。
IPC (5件):
C08F 20/60
, B01J 41/14
, B01J 47/12
, C08G 59/50
, C08J 5/22
FI (7件):
C08F20/60
, B01J41/14 G
, B01J41/14 H
, B01J47/12 D
, C08G59/50
, C08J5/22 104
, C08J5/22
Fターム (33件):
4F071AA35
, 4F071AG02
, 4F071BB12
, 4F071BC01
, 4F071FA10
, 4F071FB02
, 4F071FB07
, 4F071FC01
, 4F071FD02
, 4F071FD04
, 4J036AB01
, 4J036AB02
, 4J036AC01
, 4J036AC05
, 4J036AD08
, 4J036AJ18
, 4J036BA02
, 4J036DA01
, 4J036DC08
, 4J100AM21P
, 4J100AM21Q
, 4J100AM23P
, 4J100BA02P
, 4J100BA03P
, 4J100BA28P
, 4J100BA31Q
, 4J100BA32P
, 4J100BC65P
, 4J100CA03
, 4J100DA55
, 4J100FA08
, 4J100FA18
, 4J100JA43
引用特許:
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