特許
J-GLOBAL ID：201103091117581631
間欠塗工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内田 敏彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-239244
公開番号（公開出願番号）：特開2011-083719
出願日： 2009年10月16日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：
【課題】構造が簡単で且つ調整が容易な間欠塗工装置の提供。【解決手段】ケーシング16、弁装置17及び体積調整装置28を備えてダイへ塗工液供給を断続的に行い、弁装置17は、ケーシング16の分岐空間16aとダイ側空間16bの境界に設けた弁座19と、弁座19に液漏れなく内嵌して着座状態のまま吸引・圧送用寸法だけ移動して閉弁端位置まで進退自在な弁体18と、弁体用操作装置21とを備え、体積調整装置28は、分岐空間16aと還流路15の間に設けた外嵌部29と、外嵌部29との間で通液路30cを形成して外嵌部29に移動自在に内嵌するピストン30と、弁体18が閉弁端位置Bから開弁端位置Aへ向かって前進するときにピストン30を分岐空間16aへ向かって前進させ、弁体18が閉弁開始位置から閉弁端位置へ向かって後退するときにピストン30を後退させるピストン用操作装置31とを備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
塗工液を吐出口から吐出するダイと、塗工液を圧送する圧送手段と、ダイと圧送手段の間に設けられ、ダイへ塗工液の供給を断続的に行なうと共に不要な塗工液を還流路へ戻す間欠供給装置とを備えた間欠塗工装置において、
前記間欠供給装置は、ケーシング、弁装置及び体積調整装置を備え、
上記ケーシングは、その内側に、圧送手段に連通する分岐空間と、分岐空間に連通できると共にダイに連通するダイ側空間と、分岐空間に連通できると共に還流路に連通する還流路側空間とが形成され、
上記弁装置は、ケーシングの分岐空間とダイ側空間の境界に設けられた弁座と、ダイ側空間内に位置して弁座から離座する開弁端位置から分岐空間へ向かう移動の途中で弁座に液漏れなく内嵌して閉弁状態のまま移動して至る閉弁端位置までの間を進退自在に設けられた弁体と、弁体を開弁端位置から閉弁端位置までの間で開弁端位置へ向かって前進又は閉弁端位置へ向かって後退させる弁体用操作装置とを備え、弁体が閉弁状態のまま閉弁端位置から押出用前進できると共に閉弁端位置まで吸引用後退できるように形成され、
上記体積調整装置は、分岐空間の体積調整用であって、分岐空間と還流路側空間の間に設けられた外嵌部と、外嵌部との間で通液路を形成して外嵌部に移動自在に内嵌するピストンと、前記弁体が閉弁端位置から開弁端位置へ向かって前進するときの適宜時期にピストンを分岐空間へ向かって前進させ、また、前記弁体が開弁端位置若しくは閉弁開始位置から閉弁端位置へ向かって後退するときの適宜時期及び/又は前記弁体が閉弁端位置で停止中の適宜時期にピストンを還流路側空間へ向かって後退させるピストン用操作装置とを備えた
ことを特徴とする間欠塗工装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (16件)：
4F041AA12
, 4F041AB02
, 4F041CA02
, 4F041CA13
, 4F041CA16
, 4F041CA22
, 4F041CA25
, 4F041CA28
, 4F042AA22
, 4F042CB01
, 4F042CB07
, 4F042CB20
, 4F042CC07
, 4F042CC15
, 4F042CC30
, 4F042DH10
