特許
J-GLOBAL ID：201103091189667344
流体噴射によって力を誘起する装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
齋藤 和則
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-518597
特許番号：特許第4658425号
出願日： 2000年08月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 流体噴射、特にガス流体噴射で誘起される力を制御するための装置であって、
高圧源と、
前記高圧源に流体接続された高圧溜めと、
噴射面と、
少なくとも1つの管路と、を備え、
ここにおいて前記管路は、前記噴射面上に位置決めされた出口と、前記高圧溜めに流体接続された入口とを有し、かつ前記管路の内壁に取付けられた複数のフィンを備え、前記フィンは、互いに対向する2つの列に配置され、
ここにおいて前記管路の入口に最も近いフィンと出口に最も近いフィンを除いて、前記2つのフィン列の内の1つの列の各フィンが、複数の空洞の1つに向き合うように位置決めされ、前記各空洞は、前記対向する列の連続する2つのフィンと前記管路の内壁の間に画成され、
これにより、流体が前記管路を通って流れる場合、複数の渦が前記空洞内において促進され、それぞれの渦は前記複数の空洞の1つに配置され、前記渦は前記流体の流れの間少なくとも一時的に存在することが出来、それによって複数の前記フィンの先端部の間に中央コア流れを有する空気力学的障害を形成し、それによって質量流量を制限し、前記管路内の実質的な圧力降下を維持し、
そして1つの物体が前記出口を塞ぐ場合、前記流れが停止して、前記圧力降下が除去され、それによって効果的に前記物体を押し離し、
前記物体が、前記管路を通る前記流体の流れを部分的に阻害するのに十分な程度に前記出口に近い場合、前記物体と前記出口の間の距離が増加する程、前記圧力降下が増加して、前記噴射面とそれに対向する前記物体の表面との隙間の圧力を低下させ、
前記物体が前記出口を塞がない場合、前記管路が前記複数の渦によって空気力学的に塞がれ、前記質量流量が有意に減少することを特徴とする装置。
IPC (5件)：
F15D 1/02 ( 200 6.01)
, F16C 32/06 ( 200 6.01)
, F16C 29/12 ( 200 6.01)
, B65G 7/06 ( 200 6.01)
, F16F 9/02 ( 200 6.01)
F15D 1/02 C
, F16C 32/06 Z
, F16C 29/12
, B65G 7/06 B
, F16F 9/02
