特許
J-GLOBAL ID：201103091589271741
タンタルスパッタリングターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小越 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-028173
公開番号（公開出願番号）：特開2011-137239
出願日： 2011年02月14日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
要約：
【課題】均一微細な組織を備え、プラズマが安定であり、膜の均一性(ユニフォーミティ)に優れた高純度タンタルスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】1massppm以上、100massppm以下のタングステンを必須成分として含有し、タングステン及びガス成分を除く純度が99.998%以上であることを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。0〜100massppm(但し0massppmを除く)のモリブデン及び/又はニオブをさらに含有し、タングステン、モリブデン、ニオブの合計含有量が1massppm以上、150massppm以下であり、タングステン、モリブデン、ニオブ及びガス成分を除く純度が99.998%以上であることを特徴とする上記のタンタルスパッタリングターゲット。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
1massppm以上、100massppm以下のタングステンを必須成分として含有し、タングステン及びガス成分を除く純度が99.998%以上であることを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C14/34 A
, C22C27/02 103
