特許
J-GLOBAL ID：201103091865478509

透明導電性積層体およびその製造方法ならびにタッチパネル

発明者：
植垣 孝幸

植垣 孝幸 について

, 
小林 裕

小林 裕 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-063151
公開番号（公開出願番号）：特開2011-194679
出願日： 2010年03月18日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：
【課題】フィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性を持ち、且つパターン形状が目立たないディスプレイあるいはタッチパネルに用いられる透明導電性積層体を提供する。【解決手段】透明基材1の一方の面又は両方の面に、金属酸化物層2a、酸化ケイ素層3a及び酸化インジウム・スズ層4a、粘着剤層5aを前記透明基材側から順に設けてなる透明導電性積層体であって、前記酸化インジウム・スズ層が導電性パターン領域及び非導電性パターン領域からなり、前記金属酸化物層の屈折率が1.7以上2.6以下であり、光学膜厚が12nm以上35nm以下であり、前記酸化ケイ素層の屈折率が1.3以上1.5以下であり、光学膜厚が70nm以上110nm以下であり、前記酸化インジウム・スズ層の光学膜厚が30nm以上65nm以下であり、粘着剤層の厚みが10μm以上200μm以下である透明導電性積層体。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基材の一方の面又は両方の面に、金属酸化物層、酸化ケイ素層及び酸化インジウム・スズ層、粘着剤層を前記透明基材側から順に設けてなる透明導電性積層体であって、前記酸化インジウム・スズ層が導電性パターン領域及び非導電性パターン領域からなり、前記金属酸化物層の屈折率が1.7以上2.6以下であり、光学膜厚が12nm以上35nm以下であり、前記酸化ケイ素層の屈折率が1.3以上1.5以下であり、光学膜厚が70nm以上110nm以下であり、前記酸化インジウム・スズ層の光学膜厚が30nm以上65nm以下であり、粘着剤層の厚みが10μm以上200μm以下であることを特徴とする透明導電性積層体。
IPC (3件)：
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 ,  G06F 3/041
FI (3件)：
B32B9/00 A ,  B32B7/02 103 ,  G06F3/041 330D
Fターム (25件)：
4F100AA17B ,  4F100AA17D ,  4F100AA20C ,  4F100AB21D ,  4F100AK25 ,  4F100AK42 ,  4F100AR00A ,  4F100AR00E ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10E ,  4F100CB05E ,  4F100EH46 ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JG01 ,  4F100JG04 ,  4F100JK12E ,  4F100JN01A ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  5B087BC06 ,  5B087CC01 ,  5B087CC14 ,  5B087CC16
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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