特許

J-GLOBAL ID：201103092170006920

光ディスク及びマスターディスク製造方法及び装置

発明者： ダエ・ヨン・キム
出願人/特許権者： エルジー電子株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-097416
公開番号（公開出願番号）：特開平11-328744
特許番号：特許第3104021号
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板にフォトレジスト膜を成膜する段階と、前記フォトレジスト膜を少なくとも2回以上反復露光して前記基板上に一つのトラックを形成する段階とを含むことを特徴とするマスターディスクの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 ,  G11B 7/24 531

FI (2件)：

G11B 7/26 ,  G11B 7/24 531 Z