特許
J-GLOBAL ID:201103092298965661

チラー装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘 ,  福市 朋弘
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-400617
公開番号(公開出願番号):特開2002-195728
特許番号:特許第4622102号
出願日: 2000年12月28日
公開日(公表日): 2002年07月10日
請求項(抜粋):
【請求項1】 温度制御対象から冷媒を取り出し、この冷媒を所定温度に制御した後にバッファタンク(6)を通して再び温度制御対象に供給するチラー装置において、冷却手段(2)および加熱手段(3)により温度が制御された冷媒をバッファタンク(6)に供給する冷媒供給手段(5)と、冷媒供給手段(5)の上流側における冷媒の温度を検出する第1温度検出手段(4)と、バッファタンク(6)の下流側における冷媒の温度を検出する第2温度検出手段(7)と、設定温度、第1温度検出手段(4)による第1検出温度、および第2温度検出手段(7)による第2検出温度に基づいて冷却手段(2)および加熱手段(3)を制御する温度制御手段(8)と、を含み、 前記温度制御手段(8)は、第2検出温度と第1検出温度との差を設定温度に加算して設定温度を補正する設定温度補正手段(8b)(8c)と、補正された設定温度を入力としてPID制御を行って冷却手段(2)および加熱手段(3)を制御する制御信号を出力するPID制御手段(8d)とを含むものである、チラー装置。
IPC (2件):
F25D 17/02 ( 200 6.01) ,  F25D 9/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
F25D 17/02 301 ,  F25D 9/00 B
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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