特許

J-GLOBAL ID：201103092313850671

電子ビ-ム描画方法および描画装置、ならびにそれを用いて製作したデバイス

発明者： 高橋 弘之 ,  奥村 正秀 ,  永田 浩司 ,  安藤 公明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 磯村 雅俊 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-049390
特許番号：特許第3047294号
出願日： 1999年02月26日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 連続的に移動する試料台の位置を求め、求められた試料台位置と電子ビームを照射すべき位置とのずれ量を演算し、演算されたずれ量を電子ビームを照射するタイミングに同期してサンプリングすることにより、サンプリングしたずれ量を電子ビームの偏向により補正する第1の追従補正量を演算し、上記第1の追従補正量を原点としてそこからの変動量を上記第1の演算器の演算周期より短い周期で第2の追従補正量を演算し、上記第1および第2の追従補正量と、パターンジェネレータにより演算された描画偏向データ量とを加算器で加算し、加算された偏向データ量により偏向器を駆動することを特徴とする電子ビーム描画方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (6件)：

H01L 21/30 541 J ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B