特許
J-GLOBAL ID：201103092333432892
化学増幅型陽性フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
児玉 喜博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-202428
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098615
特許番号：特許第3040998号
出願日： 1999年07月16日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 反復単位が次の一般式(I)で表示され、ポリスチレン標準換算重量平均分子量(Mw)が3,000〜50,000であり、分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜2.0である重合体、次の一般式(VI)で表示される低分子化合物、酸発生剤及び溶剤で構成される化学増幅型陽性フォトレジスト組成物。;;化1::前記式において、R1、R2はメチル基、エチル基、t-ブチル基、iso-プロピル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタンメチル基、炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状アルキル基、多重環状アルキル基(bi,tricyclic)、アルコキシアルキル基を示すもので、それぞれ独立的である。l、m、n、oはそれぞれ主鎖内で反復単位を示す数であり、l+m+n+oは1であり、oの含有比は0.4〜0.6の値を有する。;;化2::前記式において、R3、R4は水素原子、水酸基を示し、R5は低級アルキル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタン(norbornane)が含まれたアルキル基、アダマンタン(adamantane)が含まれたアルキル基、バイシクロ[4,4,0]デカン(decalin)が含まれたアルキル基を示すもので、それぞれ独立的である。
IPC (8件)：
G03F 7/039 601
, C08F 22/06
, C08F 32/00
, C08G 61/08
, C08K 5/10
, C08L 65/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08F 22/06
, C08F 32/00
, C08G 61/08
, C08K 5/10
, C08L 65/00
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
