特許

J-GLOBAL ID：201103092422112630

高周波加熱装置

発明者： 森 泰久 ,  金子 康典
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (3件)： 岩橋 文雄 ,  内藤 浩樹 ,  永野 大介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-062851
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250674
特許番号：特許第4061808号
出願日： 2000年03月08日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室外に設けられ、前記被加熱物を加熱する発熱体と、超微細多孔構造のフュームドシリカで構成され、前記発熱体の熱を反射する反射部と、前記反射部の周囲を固定する金属カバーと、前記反射部と前記金属カバーとの間の絶縁を確保する絶縁物と、前記発熱体と前記加熱室との間に金属メッシュアミを有する高周波加熱装置。

IPC (5件)：

H05B 11/00 ( 200 6.01) ,  F24C 7/02 ( 200 6.01) ,  H05B 3/20 ( 200 6.01) ,  H05B 6/64 ( 200 6.01) ,  H05B 6/76 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H05B 11/00 F ,  F24C 7/02 501 H ,  H05B 3/20 356 ,  H05B 6/64 H ,  H05B 6/76 Z