ナノコンタクトインプリンティングによる絹フィブロインフォトニック構造の作製

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (12件)：清水初志 , 春名雅夫 , 山口裕孝 , 刑部俊 , 井上隆一 , 佐藤利光 , 新見浩一 , 小林智彦 , 渡邉伸一 , 大関雅人 , 五十嵐義弘 , 川本和弥
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-533214
公開番号（公開出願番号）：特表2011-504421
出願日： 2008年11月05日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：

電子ビームリソグラフィを用いて基板上にカスタマイズしたナノパターンマスクを形成する工程、バイオポリマーマトリックス溶液を供給する工程、基板上にバイオポリマーマトリックス溶液を堆積させる工程、およびバイオポリマーマトリックス溶液を乾燥させて、固化したバイオポリマー膜を形成する工程を含む、ナノパターン化バイオフォトニック構造の製造法。膜の表面がナノパターンマスクで形成されるか、または、バイオポリマー膜が電子ビームリソグラフィナノパターンに対応するスペクトルシグネチャを呈するような電子ビームリソグラフィを用いて、ナノパターンが膜の表面上に直接機械加工される。得られる生体適合性のナノパターン化バイオフォトニック構造は、絹で作製されてもよく、生分解性であってもよく、かつバイオセンシングデバイスであってもよい。バイオフォトニック構造は、非周期フォトニック格子に基づくナノパターン化マスクを採用してもよく、かつバイオフォトニック構造は、タンパク光の形で光学活性を示すことを含む、生体物質をプローブする際に使用するための特定のスペクトルシグネチャでデザインされてもよい。

請求項（抜粋）：

ナノパターン化バイオフォトニック構造の製造法であって、電子ビームリソグラフィを用いて基板の表面上にナノパターンマスクを形成する工程; バイオポリマーマトリックス溶液を供給する工程; 基板上にバイオポリマーマトリックス溶液を堆積させる工程;およびバイオポリマーマトリックス溶液を乾燥させて、固化したバイオポリマー膜を形成する工程を含み、バイオポリマー膜が、基板の表面上に形成された電子ビームリソグラフィナノパターンに応じてスペクトルシグネチャを呈する、方法。

IPC (3件)：

B82B 3/00 , G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (4件)：

B82B3/00 , G02B6/12 Z , G02B6/12 M , G02B6/12 N

Fターム (25件)：

2H147AA02 , 2H147AC12 , 2H147BF01 , 2H147BF03 , 2H147EA10B , 2H147EA10D , 2H147EA13D , 2H147EA14D , 2H147EA16A , 2H147EA16B , 2H147EA25A , 2H147EA25B , 2H147FA06 , 2H147FA17 , 2H147FA25 , 2H147FC06 , 2H147FD01 , 2H147FD04 , 2H147FD08 , 2H147FD14 , 2H147FD19 , 2H147FE07 , 2H147FF01 , 2H147FF04 , 2H147GA00

引用特許：

審査官引用 (4件)

サングラス
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-351358 出願人：三井化学株式会社
光学素子及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-331800 出願人：株式会社トリケミカル研究所
透過型スクリーン用部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-354124 出願人：大日本印刷株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

Silicon and polymer nanophotonic devices based on photonic crystals

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