半導体工場

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：古谷史旺 , 鈴木榮祐
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-285967
公開番号（公開出願番号）：特開2001-065183
特許番号：特許第3939472号
出願日： 1999年10月06日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】大屋根を備えたメイン製造エリアの両側または片側に機械室を設けたコア部を配置して成る半導体工場において、前記メイン製造エリアの大屋根を受ける桁往き方向の梁を、前記コア部よりのダクトを貫通させる箇所において、垂直材と連結しない斜材の端部が、所要の距離を隔てて上弦部材に取り付けられることによって形成されたニートラス構造とし、梁トラス内部にダクト貫通用空間を設けたことを特徴とする半導体工場。

IPC (2件)：