特許
J-GLOBAL ID：201103093134026555

フェライト粒子及びそれを用いた電子写真現像用キャリア、電子写真用現像剤並びにフェライト粒子の製造方法

発明者：
小川 翔

小川 翔 について

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北村 利哉

北村 利哉 について


出願人/特許権者：
DOWAエレクトロニクス株式会社

DOWAエレクトロニクス株式会社 について

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DOWA IPクリエイション株式会社

DOWA IPクリエイション株式会社 について


代理人 (1件)： 山田 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-076583
公開番号（公開出願番号）：特開2011-209475
出願日： 2010年03月30日
公開日（公表日）： 2011年10月20日
要約：
【課題】所望の飽和磁化を有するとともに、高電気抵抗を有するフェライト粒子を提供すること。【解決手段】MgとFeとをモル比xで0〜0.5の範囲を含有させ、格子定数f(x)が下記式(1)を満足するようにする。 0.525x3-0.19x2+0.064x+8.387≦f(x)≦0.525x3-0.19x2+0.064x+8.409 ・・・(1)(式中、x:Mg/Feモル比) このようなフェライト粒子の製造方法としては、Fe原料及びMg原料を媒体液中で混合してスラリーを得る工程と、スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、前記造粒物を焼成して焼成物を得る工程とを有し、前記焼成を下記式(2)を満たす条件で行う製造方法が好ましい。 -5000≦T×logPO2≦0 ・・・・・・(2)(式中、T:温度(°C),PO2=酸素圧力/全体圧力)【選択図】図1
請求項（抜粋）：
MgとFeとを含有し、Mg/Feのモル比xが0〜0.5の範囲のフェライト粒子であって、 格子定数f(x)が下記式(1)を満足することをことを特徴とするフェライト粒子。 0.525x3-0.19x2+0.064x+8.387≦f(x)≦0.525x3-0.19x2+0.064x+8.409 ・・・(1) (式中、x:Mg/Feモル比)
IPC (2件)：
G03G 9/107 ,  G03G 9/113
FI (2件)：
G03G9/10 321 ,  G03G9/10 351
Fターム (5件)：
2H005BA02 ,  2H005BA06 ,  2H005BA11 ,  2H005CB04 ,  2H005EA05
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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