特許
J-GLOBAL ID:201103093954994157
石炭ガス化スラグを用いたハイドログロシュラーの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (9件):
三枝 英二
, 掛樋 悠路
, 小原 健志
, 中川 博司
, 舘 泰光
, 斎藤 健治
, 藤井 淳
, 関 仁士
, 中野 睦子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-028812
公開番号(公開出願番号):特開2001-220128
特許番号:特許第3692443号
出願日: 2000年02月07日
公開日(公表日): 2001年08月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】石炭ガス化スラグを含む原料スラリーを水熱処理することによりハイドログロシュラーを製造する方法。
IPC (7件):
C01B 33/26
, B01D 53/14
, B01D 53/40
, B01J 20/10
, B09B 3/00
, C10J 3/02
, C09K 3/00
FI (8件):
C01B 33/26
, B01D 53/14 A
, B01J 20/10 B
, C10J 3/02 K
, B01D 53/34 118 Z
, B09B 3/00 ZAB
, B09B 3/00 304 A
, C09K 3/00 S
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
塩化水素除去材
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-067146
出願人:旭化成工業株式会社
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