特許
J-GLOBAL ID:201103093954994157

石炭ガス化スラグを用いたハイドログロシュラーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-028812
公開番号(公開出願番号):特開2001-220128
特許番号:特許第3692443号
出願日: 2000年02月07日
公開日(公表日): 2001年08月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】石炭ガス化スラグを含む原料スラリーを水熱処理することによりハイドログロシュラーを製造する方法。
IPC (7件):
C01B 33/26 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/40 ,  B01J 20/10 ,  B09B 3/00 ,  C10J 3/02 ,  C09K 3/00
FI (8件):
C01B 33/26 ,  B01D 53/14 A ,  B01J 20/10 B ,  C10J 3/02 K ,  B01D 53/34 118 Z ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 304 A ,  C09K 3/00 S
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 塩化水素除去材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-067146   出願人:旭化成工業株式会社

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