非線形素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-084082
公開番号（公開出願番号）：特開平2-264225
特許番号：特許第2845929号
出願日： 1989年04月04日
公開日（公表日）： 1990年10月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガラス基板上の全面に第1の金属膜を形成し、さらに全面に感光性樹脂を形成する工程と、フォトリソグラフィにより、上記感光性樹脂を下層金属と配線のパターン形状にパターニングする工程と、パターニングした上記感光性樹脂をエッチングマスクとして、上記第1の金属膜をエッチングして、上記下層金属と上記配線を形成する工程と、全面に絶縁膜を形成する工程と、上記感光性樹脂を除去することにより、上記感光性樹脂の上面に形成されている上記絶縁膜を除去して、上記第1の金属膜の非形成領域に上記絶縁膜を埋め込む工程と、上記下層金属上に絶縁体を形成する工程と、全面に第2の金属膜を形成し、フォトエッチングによりその第2の金属膜からなる上層金属を形成する工程とを有することを特徴とする非線形素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02F 1/136 510 , H01L 49/02

FI (2件)：

G02F 1/136 510 , H01L 49/02

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭61-151614
特開昭61-121079

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