ガスセンサおよび金属酸化物薄層表面状態制御方法。

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：和気操
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-281837
公開番号（公開出願番号）：特開2002-090324
特許番号：特許第3577544号
出願日： 2000年09月18日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板と、この基板上に形成された酸化スズ膜とを備えてなるガスセンサであって、前記酸化スズ膜は、溶液中で化学修飾される、塩化スズまたはスズテトラアルコキシドと、該塩化スズまたはスズテトラアルコキシドに化学修飾できるポリエチレングリコールおよびポリエチレンオキサイドから選ばれた少なくとも一つとを含む溶液より成膜した後、酸素含有雰囲気中で焼成して得られることを特徴とするガスセンサ。

IPC (1件)：