特許

J-GLOBAL ID：201103094433706399

塗布、現像装置の運転方法及び塗布、現像装置

発明者： 上村 良一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-041652
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243689
特許番号：特許第3469803号
出願日： 1999年02月19日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板に対してアミンを含むガスにより疎水化処理を行う疎水化処理部、疎水化処理された基板にレジストを塗布する塗布処理部、露光後の基板を現像する現像処理部、及び基板の搬送領域が筐体内に設けられ、筐体内は外部に対して陽圧に保たれている塗布、現像装置において、前記筐体内のアミン濃度をアミン濃度測定部により測定する工程と、この工程で測定されたアミン濃度測定値が予め設定した設定濃度以上となったときに、前記筐体と外部との差圧の異常の有無を判断する工程、または前記疎水化処理部の状態を不具合検出手段により判断する工程の少なくとも一方を行う工程と、を含むことを特徴とする塗布、現像装置の運転方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502

FI (4件)：

G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 Z ,  H01L 21/30 564 C