特許
J-GLOBAL ID：201103094503342969
高周波焼入装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 孝治 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-132148
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328137
特許番号：特許第3452832号
出願日： 1999年05月13日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 長尺棒状のワークを軸方向に搬送しながら移動焼入を行う高周波焼入装置において、ワークの両側を誘導加熱する加熱コイルと、加熱されたワークの両側に対して焼入液を噴射する右側、左側冷却ジャケットと、軸方向の右側又は左側に歪むワークの歪みの量を検出するセンサと、センサにより検出されたデータと基準データとの偏差を求め、この偏差に基いて前記冷却ジャケットの焼入液の噴射量を各々制御する制御部とを具備しており、前記制御部は、検出されたデータと基準データとの偏差が予め設定された許容範囲であるときには、右側及び左側冷却ジャケットの噴射量をほぼ均一にし、前記偏差が予め設定された許容範囲を超えワークが右側に歪んだと判断したときには、右側冷却ジャケットの噴射量を少なくする一方、左側冷却ジャケットの噴射量を多くし、前記偏差が予め設定された許容範囲を超えワークが左に歪んだと判断したときには、左側冷却ジャケットの噴射量を少なくする一方、右側冷却ジャケットの噴射量を多くし、その後、前記偏差が0になったときには、右側及び左側冷却ジャケットの噴射量を元に戻すようになっていることを特徴とする高周波焼入装置。
IPC (3件)：
C21D 1/10
, C21D 1/42
, C21D 1/667
C21D 1/10 J
, C21D 1/10 D
, C21D 1/42 F
, C21D 1/667
