特許
J-GLOBAL ID：201103094844305514
成膜装置および成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-072169
公開番号（公開出願番号）：特開2011-202248
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：
【課題】長尺な基板を、冷却されるドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、成膜を行なう場合に、基板とドラムとの密着不良を抑制することにより、熱による基板の変形を防止し、高品質な機能性フィルムを効率よく連続成膜することができる成膜装置および成膜方法を提供する。【解決手段】成膜手段による成膜領域を規定する開口部68aを有するマスク68と、マスクの開口部における基板Zの搬送方向の上流側の位置で、基板とドラム36との密着状態を検出する密着検出手段と、基板とドラムとの密着状態を制御する密着制御手段とを有し、密着制御手段が密着検出手段による密着状態の検出結果に応じて、基板とドラムとの密着状態を制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
長尺な基板を円筒状のドラムの周面に巻き掛けて、長手方向に搬送しつつ、前記ドラムの周面に対面して配置された成膜手段によって、前記基板に成膜を行なう成膜方法であって、
前記ドラムを冷却する冷却手段と、
前記成膜手段による成膜領域を規定する開口部を有するマスクと、
前記マスクの開口部における前記基板の搬送方向の上流側の位置で、前記基板と前記ドラムとの密着状態を検出する密着検出手段と、
前記基板と前記ドラムとの密着状態を制御する密着制御手段とを有し、
前記密着制御手段が前記密着検出手段による密着状態の検出結果に応じて、前記基板と前記ドラムとの密着状態を制御することを特徴とする成膜方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C14/54 F
, C23C14/34 J
4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA44
, 4K029BB03
, 4K029CA06
, 4K029DA03
, 4K029DC03
, 4K029DC33
, 4K029DC34
, 4K029HA01
, 4K029JA10
, 4K029KA03
