特許

J-GLOBAL ID：201103095022810809

基板洗浄方法

発明者： 平野 直也 ,  星野 栄一 ,  鉾 宏真 ,  小川 太郎
出願人/特許権者： 島田理化工業株式会社 ,  富士通株式会社 ,  株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 萩原 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109852
公開番号（公開出願番号）：特開2001-293443
特許番号：特許第3426560号
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板を洗浄する基板洗浄方法であって、超音速流を発生する超音速ノズルから、洗浄液を圧縮気体により超音速に加速して噴出させて、前記基板の基板面に作用させる基板洗浄工程と、前記洗浄液による基板洗浄の直後時または直前直後時に、紫外線を大気中で前記基板に照射する紫外線照射工程と、を備えた、ことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (5件)：

B08B 3/10 ,  B08B 3/02 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 645

FI (6件)：

B08B 3/10 Z ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/02 D ,  G03F 1/08 X ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 645 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-197621   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127984   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
• 基板洗浄装置及び基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-247559   出願人：株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所