特許
J-GLOBAL ID：201103095052818677
有害物質除去システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-196128
公開番号（公開出願番号）：特開2003-010842
特許番号：特許第4202004号
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理物中の有害物質を除去する有害物質除去システムであって、
上記被処理物中の有害物質を吸着処理する吸着剤を充填してなる処理槽と、
該吸着剤に吸着された有害物質を脱離させる脱離溶媒を供給する脱離溶媒供給手段と、
上記脱離した有害物質を含む脱離液を回収する脱離液回収タンクと、
上記処理槽内の上記吸着剤への吸着の有無の確認により当該吸着剤の保持能力を判定可能なトレーサ物質を当該処理槽の入口側の被処理物供給ライン内に供給するトレーサ物質供給手段と、
上記処理槽の出口側の被処理物排出ライン内のトレーサ物質を検出するトレーサ検出手段と
を備えてなることを特徴とする有害物質除去システム。
IPC (10件)：
C02F 1/28 ( 200 6.01)
, B01J 3/00 ( 200 6.01)
, B01J 20/10 ( 200 6.01)
, B01J 20/34 ( 200 6.01)
, C02F 1/02 ( 200 6.01)
, C02F 1/32 ( 200 6.01)
, C02F 1/74 ( 200 6.01)
, C02F 1/78 ( 200 6.01)
, G01N 33/00 ( 200 6.01)
, G01N 33/18 ( 200 6.01)
C02F 1/28 ZAB A
, B01J 3/00 A
, B01J 20/10 D
, B01J 20/34 C
, B01J 20/34 G
, C02F 1/02 A
, C02F 1/32
, C02F 1/74 101
, C02F 1/78
, G01N 33/00 Z
, G01N 33/18 B
