特許
J-GLOBAL ID：201103095187293450
冷却装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-291100
公開番号（公開出願番号）：特開2011-149100
出願日： 2010年12月27日
公開日（公表日）： 2011年08月04日
要約：
【課題】基板を回転させながら効率よく冷却することができる技術の実現。【解決手段】スパッタリング装置100の真空容器101内部の基板を冷却するための冷却装置であって、前記基板Wを冷却する基板冷却台104と、前記基板冷却台を冷却する冷却機構102と、前記基板冷却台に冷却ガスを導入する冷却ガス供給部110,111と、前記基板を前記基板冷却台から所定の間隙だけ離間させた状態で保持し、当該基板を保持した状態で回転駆動される基板回転機構105と、前記基板回転機構を所定の回転数で回転駆動する駆動機構106と、を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
処理対象の基板を冷却するための冷却装置であって、
冷凍機と、
前記冷凍機に接続され、前記基板の非処理面に向く冷却ガス噴出孔を有する基板冷却台と、
前記基板冷却台に冷却ガスを導入する冷却ガス供給部と、
前記基板を前記基板冷却台から所定の間隙だけ離間させた状態で保持し、当該基板を保持した状態で回転駆動される基板回転機構と、
前記基板回転機構を回転駆動する駆動機構と、を有することを特徴とする冷却装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
4K029AA04
, 4K029AA24
, 4K029CA05
, 4K029DA04
, 4K029DA06
, 4K029JA01
, 4K029JA02
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112GB01
, 5D112KK01
