特許

J-GLOBAL ID：201103095188369922

高真空装置

発明者： ローレン ニール ファイファー ,  ケニース ウィリアム ウェスト
出願人/特許権者： アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー
代理人 (1件)： 三俣 弘文 (外1名)
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-299918
公開番号（公開出願番号）：特開平2-245232
出願日： 1989年11月20日
公開日（公表日）： 1990年10月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】可焼真空室と、この真空室からガスを除去するよう真空室に連通するクライオポンプとを有し、このクライオポンプは、その通常動作時に室温Tp以下の温度に維持される主ポンプ段を有する、高真空装置において、(a)外部源からクライオポンプの主ポンプ段に、および、外部源から真空システムに、冷却剤を導入する高伝熱性のチューブと、(b)真空室のベークアウト(bake-out)の間、主ポンプ段をTp以上にならないよう維持するよう、クライオポンプの主ポンプ段と前記チューブとを熱的に連結するために、そのチューブに接続される高伝熱性のブロックと、を有することを特徴とする高真空装置。

IPC (6件)：

B01J 3/02 M ,  B01J 3/00 J ,  B01J 3/00 N ,  B64G 7/00 Z 7331-3D ,  F04B 37/08 6907-3H ,  H01L 21/203 M 8122-4M

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭55-033059