特許
J-GLOBAL ID：201103095232359786
フッ素化スルホンイミド化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-120659
公開番号（公開出願番号）：特開2011-246386
出願日： 2010年05月26日
公開日（公表日）： 2011年12月08日
要約：
【課題】簡便な工程で、収率良くスルホンイミドリチウム塩を製造することが可能なフッ素化スルホンイミド化合物の製造方法を提供する。【解決手段】化学式((Rf1SO2)(Rf2SO2)NLi)で示されるフッ素化スルホンイミド化合物の製造方法であって、化学式(Rf1SO2NH2)で示されるスルホンアミドと化学式(Rf2SO2X)に示されるスルホニルハライドとを、水素化リチウム(LiH)の存在下、有機溶媒中で反応させることを特徴とするフッ素化スルホンイミド化合物の製造方法を選択する。但し、上記化学式において、Rf1及びRf2は、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルケニル基であり、Xはフッ素(F)又は塩素(Cl)である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)に示されるフッ素化スルホンイミド化合物の製造方法であって、
下記式(2)に示されるスルホンアミドと下記式(3)に示されるスルホニルハライドとを、水素化リチウム(LiH)の存在下、有機溶媒中で反応させることを特徴とするフッ素化スルホンイミド化合物の製造方法。
(Rf1SO2)(Rf2SO2)NLi ・・・(1)
Rf1SO2NH2 ・・・(2)
Rf2SO2X ・・・(3)
但し、上記式(1)〜(3)において、Rf1及びRf2は、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のペルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルケニル基である。
また、上記式(3)において、Xはフッ素(F)又は塩素(Cl)である。
IPC (2件)：
C07C 303/36
, C07C 311/48
4H006AA02
, 4H006AC61
, 4H006BB25
, 4H006BD70
, 4H006BE15
