特許

J-GLOBAL ID：201103095360500319

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者： 田中 孝佳 ,  宗徳 皓太 ,  山口 久美子
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-172017
公開番号（公開出願番号）：特開2011-029315
出願日： 2009年07月23日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：

【課題】短い洗浄時間にて基板の全面を洗浄することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄ヘッド60の底面には20個の吐出孔を所定の配列間隔で一列に並べた孔列NRを4列設けている。また、洗浄ヘッド60の外壁面には圧電素子が貼設されている。洗浄ヘッド60の内部に洗浄液を供給しつつ、圧電素子により洗浄液に振動を付与することによって、合計80個の吐出孔64から直径が一定である洗浄液の液滴を生成して一定速度にて連続して吐出する。洗浄ヘッド60から液滴を吐出する際には、カバーリンスノズル80から基板Wの上面にカバーリンス液を吐出して液膜を形成しつつ洗浄ヘッド60を基板Wの中心部と端縁部との間でスキャンさせる。80個の吐出孔64から液滴を吐出することによって、短い洗浄時間にて基板Wの全面を洗浄することができる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

直径が一定である洗浄液の液滴を一定速度にて連続して基板に吐出して洗浄する基板洗浄装置であって、 基板を保持して回転させる回転保持手段と、 前記回転保持手段に保持された基板の上面に液体を吐出して液膜を形成する液膜形成手段と、 それぞれが直径が一定である洗浄液の液滴を一定速度にて連続して吐出する60個以上300個以下の吐出孔を穿設した洗浄ヘッドと、 を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/26

FI (4件)：

H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643A ,  G11B5/84 Z ,  G11B7/26

Fターム (32件)：

5D112AA02 ,  5D112BA09 ,  5D112GA02 ,  5D112GA08 ,  5D121AA02 ,  5D121BB30 ,  5D121GG18 ,  5F157AA28 ,  5F157AA73 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB89 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB22 ,  5F157BB33 ,  5F157BB44 ,  5F157BB52 ,  5F157BB73 ,  5F157CB15 ,  5F157CE07 ,  5F157CE31 ,  5F157CE59 ,  5F157CF62 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DB37 ,  5F157DB45 ,  5F157DC84 ,  5F157DC86

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-293790   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板洗浄方法及び基板洗浄ノズル並びに基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-166515   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウエハの洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050506   出願人：ソニー株式会社