特許
J-GLOBAL ID：201103095425639069
ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野口 恭弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-175251
公開番号（公開出願番号）：特開2011-028091
出願日： 2009年07月28日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなリソグラフィ用ペリクルを提供すること。【解決手段】ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が10〜90容量%であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル、好ましくは、前記粘着層に含有される気泡の数平均直径が10〜200μmである。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ペリクルフレームの一端面にペリクル膜が張設され、他端面に粘着層が設けられ、前記粘着層の気泡含有率が10〜90容量%であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
2H095BC33
, 2H095BC35
, 2H095BC39
