特許

J-GLOBAL ID：201103095744116370

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤

発明者： 羽田 英夫 ,  内海 義之
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-230854
公開番号（公開出願番号）：特開2011-081044
出願日： 2009年10月02日
公開日（公表日）： 2011年04月21日
要約：

【課題】レジスト組成物用の新規酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b0)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。[式中、R1は、脂肪族環式基であり;R2は、単結合または置換基を有していてもよいアルキレン基であり;R3は、置換基を有していてもよいアリーレン基であり;R4は、置換基を有していてもよい炭素数4または5のアルキレン基であり;X-は対アニオンである。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b0)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/10

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/10

Fターム (28件)：

2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN42P ,  2H125AN57P ,  2H125AN64P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100BD10P ,  4J100CA05 ,  4J100DA40 ,  4J100JA38