特許
J-GLOBAL ID：201103095796350576
ラジアル配向磁石の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-103785
公開番号（公開出願番号）：特開平2-281721
出願日： 1989年04月24日
公開日（公表日）： 1990年11月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】円柱状ロッドと成形面を平らとした上パンチ、下パンチとコイルとヨークを有する金型を用い上記金型のダイスとロッドの間の空間に磁石粉末を供給し、磁場をかけつつ上記磁石粉末に圧力を加えて成形してラジアル配向円筒状磁石を製造する方法において、上記ダイスを加圧成形部分の上層の磁性部と円筒状磁石の最終製品の厚さ以上の高さを持つ下層の非磁性部で構成し、磁石粉末をダイスの上方磁性部に囲まれた前記空間に供給して加圧し、えられた成型体を下方の非磁性部の方向の空間に移し更に磁性部の空間に新しい磁石粉末を供給し、加圧し、新たに得られた厚みの増した成型体を非磁性部の方向の空間に移し、これを任意回数繰返すことによって厚みの大なる円筒状磁石を製造することを特徴とする、ラジアル配向磁石の製造方法。
IPC (3件)：
H01F 41/02 G 8019-5E
, B22F 3/02 H
, B22F 5/00 B
