特許

J-GLOBAL ID：201103096106627534

露光装置及びデバイスの製造方法

発明者： 水谷 剛之 ,  萩原 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-158915
公開番号（公開出願番号）：特開2011-014785
出願日： 2009年07月03日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：

【課題】露光精度の低下を抑制する露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、所定状態に設定された気体を収容する第1空間と、前記第1空間内を移動可能に配置された移動体と、前記第1空間に接続され、前記移動体の移動に応じて前記第1空間内との間で前記気体の移動が可能に設けられた第2空間と、前記第2空間から前記第1空間に流入する前記気体を前記所定状態となるように調整する調整装置とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、 所定状態に設定された気体を収容する第1空間と、 前記第1空間内を移動可能に配置された移動体と、 前記第1空間に接続され、前記移動体の移動に応じて前記第1空間内との間で前記気体の移動が可能に設けられた第2空間と、 前記第2空間から前記第1空間に流入する前記気体を前記所定状態となるように調整する調整装置と を備える露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68

FI (4件)：

H01L21/30 516B ,  H01L21/30 516E ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 K

Fターム (17件)：

5F031CA02 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA22 ,  5F031LA03 ,  5F031MA27 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046DA07 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F046DB02 ,  5F046DC10