特許

J-GLOBAL ID：201103096288216577

二元細孔シリカの製造方法

発明者： 高橋 亮治 ,  佐藤 智司 ,  松谷 勝博 ,  三上 直樹
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-093589
公開番号（公開出願番号）：特開2005-281012
特許番号：特許第4268548号
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】珪酸アルカリ金属塩、アルキル硫酸塩及び酸からなる混合溶液をゲル化させた後、次いで水洗、熟成、乾燥することを特徴とする二元細孔シリカの製造方法。

IPC (5件)：

C01B 33/193 ( 200 6.01) ,  B01J 20/30 ( 200 6.01) ,  B01J 21/08 ( 200 6.01) ,  B01J 32/00 ( 200 6.01) ,  B82B 3/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C01B 33/193 ,  B01J 20/30 ,  B01J 21/08 M ,  B01J 32/00 ,  B82B 3/00

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 膜乳化用多孔質シリカ膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-387390   出願人：中西和樹, 細矢憲, 株式会社京都モノテック
• シリカ質アエロゲル球体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-202058   出願人：三井化学株式会社