特許
J-GLOBAL ID:201103096577710890
ポリアクリロニトリル系炭素化体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
林 恒徳
, 土井 健二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354636
公開番号(公開出願番号):特開2002-160912
特許番号:特許第4384801号
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年06月04日
請求項(抜粋):
【請求項1】ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと酸素とを含むガスと接触せしめ不炎化体とした後、300〜3000°Cの不活性ガスの雰囲気内で焼成することを特徴とするポリアクリロニトリル系炭素化体の製造方法。
IPC (2件):
C01B 31/02 ( 200 6.01)
, D01F 9/22 ( 200 6.01)
FI (2件):
C01B 31/02 101 Z
, D01F 9/22
引用特許:
前のページに戻る