特許
J-GLOBAL ID：201103097550465580
赤外線乾燥装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
佐藤 一雄
, 永井 浩之
, 岡田 淳平
, 黒瀬 雅志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109586
公開番号（公開出願番号）：特開2001-289561
特許番号：特許第4287979号
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 塗膜が形成された基材が内部を走行する乾燥炉と、
乾燥炉内の基材の上方に基材に略平行に配置された赤外線ヒータと、
乾燥炉内の赤外線ヒータ上方に配置された空気を給気する給気装置および空気を排気する排気装置とを備え、
給気装置と排気装置とによって、赤外線ヒータと基材との間に空気流を形成することなく、赤外線ヒータ上方のみに赤外線ヒータと平行な空気流を形成することを特徴とする赤外線乾燥装置。
IPC (5件)：
F26B 23/04 ( 200 6.01)
, F26B 13/04 ( 200 6.01)
, F27B 9/02 ( 200 6.01)
, F27D 7/02 ( 200 6.01)
, B05D 3/02 ( 200 6.01)
F26B 23/04 B
, F26B 13/04
, F27B 9/02
, F27D 7/02 Z
, B05D 3/02 E
