特許
J-GLOBAL ID:201103097599432474

ガス発生器および低温ガスの発生法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松井 光夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-526483
特許番号:特許第4596722号
出願日: 2000年09月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ガス及び1以上の反応生成物を発生させるための手段を含む少なくとも1つの第一本体、および中和剤を発生させるための手段を含む少なくとも1つの空間的に離れた第二本体を含むガス発生器において、該中和剤をして該第一本体を通過させて該第一本体におけるガスの発生からのスラグのような1以上の反応生成物を中和するための手段が存在し、かつ第一本体におけるガスの発生から空間的間隔および任意的に時間的間隔をおいて第二本体での中和剤の発生を操作するための手段が存在するところのガス発生器。
IPC (6件):
B60R 21/264 ( 200 6.01) ,  B01J 7/00 ( 200 6.01) ,  C06B 23/02 ( 200 6.01) ,  C06B 23/04 ( 200 6.01) ,  C06B 35/00 ( 200 6.01) ,  C06D 5/00 ( 200 6.01)
FI (6件):
B60R 21/264 ,  B01J 7/00 A ,  C06B 23/02 ,  C06B 23/04 ,  C06B 35/00 ,  C06D 5/00 Z
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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